Vyhláška k provedení zákona č. 21/1997 Sb., o kontrole vývozu a dovozu zboží a technologií podléhajících mezinárodním kontrolním režimům, ve znění zákona č. 204/2002 Sb

c. Provozní zařízení „řízené uloženým programem“ pro fyzikální parní nanášení s elektronovým svazkem (EB-PVD), s energetickými systémy s jmenovitou hodnotou přes 80 kW, která mají některou z následujících charakteristik:

• 1. „Laserový“ systém k řízení výšky hladiny kapaliny, který přesně reguluje rychlost podávání ingotů; nebo

• 1. Počítačem řízený monitor rychlosti, pracující na principu fotoluminiscence ionizovaných atomů v proudu odpařené látky pro řízení rychlosti nanášení povlaků obsahujících dva nebo více prvků;

d. Plasmové stříkací provozní zařízení „řízené uloženým programem“, která mají některou z dále uvedených charakteristik:

• 1. Pracují s řízeným prostředím za sníženého tlaku (který se rovná nebo je menší než 10 kPa, měřeno v okolí do 300 mm od výstupu hubice pistole) ve vakuové komoře, ve které je možné snížit tlak na 0,01 Pa před procesem stříkání; nebo

• 1. Obsahují řízení tloušťky povlaku in situ;

e. Provozní zařízení „řízené uloženým programem“ pro nanášení naprašováním schopné proudových hustot 0,1 mA/mm^2 nebo vyšších při nanášecích rychlostech 15 μm/ hodinu nebo vyšších;

f. Provozní zařízení „řízené uloženým programem“ pro nanášení v katodickém oblouku a obsahující síť elektromagnetů pro řízení obloukového bodu na katodě;

g. Provozní zařízení „řízené uloženým programem“ pro iontové pokovování, která umožňují měření in situ některé z veličin:

• 1. Tloušťky povlaku na podkladovém materiálu a řízení rychlosti; nebo

• 1. Optických charakteristik.

Poznámka: 2B005 nekontroluje chemické nanášení v parní fázi katodickým obloukem, naprašováním, iontovým pokovováním nebo iontovou implantací speciálně konstruované pro stříhací nebo obráběcí nástroje.

2B006 Stroje a zařízeni pro měření nebo kontrolu rozměrů:

a. Souřadnicové měřicí stroje (CMM) – počítačově nebo „číslicově řízené“ stroje nebo stroje „řízené uloženým programem“, které mají trojrozměrnou (volumetrickou) maximální povolenou chybu indikace (MPEE) v jakémkoliv bodě měřicího rozsahu stroje (tj. podél celé délky měřených os) rovnou nebo lepší než (1,7 + L/1000) μm (kde L je měřená délka v mm), zkoušeno podle normy ISO 10360-2 (2001);

Viz také 2B206.

b. Přístroje pro měření lineární nebo úhlové změny polohy:

• 1. Přístroje pro měření 'lineární změny polohy', které mají některou z dále uvedených charakteristik:

Technická poznámka:

Pro účely 2B006.b.1. 'lineární změna polohy' znamená změnu vzdálenosti mezi měřicím vzorkem a měřeným objektem.

a. Bezdotykový měřicí systém s „rozlišovací schopností“ 0,2 μm nebo lepší v měřicím rozsahu do 0,2 mm;

b. Systémy s lineárním napěťovým diferenčním transformátorem, které mají všechny dále uvedené charakteristiky:

• 1. „Linearitu“ 0,1 % nebo lepší v měřicím rozsahu do 5 mm; a

• 1. Drift (posun) 0,1 % za den nebo lepší při standardní okolní teplotě zkušební místnosti ±1 K; nebo

c. Měřicí systémy, které mají obě dále uvedené charakteristiky:

• 1. Obsahují „laser“; a

• 1. Zachovávají po dobu nejméně 12 hodin v teplotním rozmezí ± 1 K kolem standardní teploty a při standardním tlaku obě dále uvedené charakteristiky:

a. „Rozlišovací schopnost“ 0,1 μm nebo lepší po celé stupnici; a

b. „Nejistotu měření“ (0,2 + L/2000) μm nebo lepší (L je měřená délka v mm);

Poznámka: 2B006.b.1. nekontroluje měřicí interferometrové systémy bez uzavřené nebo otevřené zpětné vazby obsahující „laser“ pro měření úchylek pohybu saní obráběcích strojů, měřicích a kontrolních strojů, nebo podobných zařízení.

• 1. Přístroje pro měření úhlové změny polohy, které mají „odchylku úhlové polohy“ 0,00025° nebo lepší;

Poznámka: 2B006.b.2. nekontroluje optické přístroje jako jsou například autokolimátory, které pracují skolimovaným světlem pro detekci úhlové změny polohy zrcadla.

c. Zařízení pro měření nepravidelností povrchu měřením optického rozptylu jako funkce úhlu, jejichž citlivost je 0,5 nm nebo lepší.

Poznámka 1: Obráběcí stroje, které mohou být použity jako měřicí stroje jsou kontrolovány, jestliže splňují nebo přesahují kritéria specifikovaná pro funkci obráběcího stroje nebo funkci měřicího stroje.

2B007 „Roboty“, které mají některou z dále uvedených charakteristik a speciálně konstruované řídicí jednotky a „koncové efektory“:

Viz také 2B207.

a. Schopné v reálném čase zpracovat úplný trojrozměrný obraz nebo úplnou trojrozměrnou 'analýzu scény' za účelem vytvoření nebo úpravy „programů“ nebo vytvoření či úpravy číslicových dat programů;

Technická poznámka:

Omezení 'analýzy scény' nezahrnuje přiblížení třetího rozměru zobrazením pod daným úhlem nebo výklad omezené stupnice šedi pro rozeznávání hloubky nebo textury pro schválené zadání (2 1/2 D).

b. Speciálně konstruované, aby vyhověly národním bezpečnostním předpisům používaným pro manipulaci s látkami, u nichž hrozí nebezpečí výbuchu.

c. Speciálně konstruované nebo vypočtené jako radiačně odolné, aby vydržely celkovou dávku radiace vyšší než 5x10^3 Gy (křemík) bez snížení provozní způsobilosti; nebo

Technická poznámka:

Výraz Gy (křemík) se vztahuje na energii v J/kg absorbovanou nezaštítěným vzorkem křemíku vystaveného ionizujícímu záření.

d. Speciálně konstruované pro provoz ve výškách nad 30000 m.

2B008 Montážní celky nebo jednotky speciálně konstruované pro obráběcí stroje nebo pro stroje a zařízení pro měření nebo kontrolu rozměrů:

a. Zpětnovazebné jednotky lineární polohy (např. přístroje indukčního typu, měřítka se stupnicí, infračervené systémy nebo „laserové“ systémy), které mají celkovou „přesnost“ lepší než (800+(600×L×10^-3)) nm (L se rovná efektivní délce v mm);

POZN.: Pro „laserové“ systémy viz také Poznámka k 2B006.b.1.

b. Zpětnovazebné jednotky úhlové polohy (např. přístroje indukčního typu, měřítka se stupnicí, infračervené systémy nebo „laserové“ systémy), které mají „přesnost“ lepší než 0,00025°;

POZN.: Pro „laserové“ systémy viz také Poznámka k 2B006.b.1.

c. „Kombinované otočné stoly“ a „naklápěcí vřetena“, pomocí nichž mohou být v souladu se specifikací výrobce modernizovány obráběcí stroje tak, že dosáhnou nebo překročí úrovně specifikované v 2B.

2B009 Stroje pro kontinuální tváření a kovotlačitelské tváření, které mohou být podle technické specifikace výrobce vybaveny jednotkami „číslicového řízení“ nebo řízeny počítačem a které mají všechny dále uvedené charakteristiky:

Viz také 2B109 a 2B209.

a. Dvě nebo více řízených os, z nichž nejméně dvě mohou být řízeny současně pro „interpolaci tvaru“; a

b. Sílu tvářecí kladky větší než 60 kN.

Technická poznámka:

Stroje kombinující funkci kovotlačitelského tváření a kontinuálního tváření jsou pro účely 2B009 považovány za stroje pro kontinuální tváření.

2B104 „Izostatické lisy“, jiné než specifikované v 2B004, které mají všechny dále uvedené charakteristiky:

Viz také 2B204.

a. Maximální pracovní tlak 69 MPa nebo větší;

b. Konstruované pro dosažení a udržování řízené teploty prostředí 873 K (600 °C) nebo větší; a

c. Vybavené komorou s vnitřním průměrem dutiny 254 mm nebo větším.

2B105 Pece pro CVD, jiné než specifikované v 2B005.a., konstruované nebo upravené pro zhuštění kompozitů typu uhlík-uhlík.

2B109 Stroje pro kontinuální tváření, jiné než specifikované v 2B009, a speciálně konstruované součásti:

Viz také 2B209.

a. Stroje pro kontinuální tváření, které mají všechny dále uvedené charakteristiky:

• 1. Mohou být podle technické specifikace výrobce vybaveny jednotkami pro „číslicové řízení“ nebo řízeny počítačem, i když takovými jednotkami vybaveny nejsou; a

• 1. Mají více než dvě osy, které mohou být řízeny současně pro „interpolaci tvaru“.

b. Speciálně konstruované součásti pro stroje pro kontinuální tváření specifikované v 2B009 nebo 2B109.a.

Poznámka: 2B109 nekontroluje stroje, které nejsou použitelné ve výrobě pohonných jednotek a příslušenství (např. motorových skříní) pro systémy specifikované v 9A005, 9A007.a. nebo 9A105.a.

Technická poznámka:

Stroje kombinující funkce kovotlačitelského tváření a kontinuálního tváření jsou pro účely 2B109 považovány za stroje pro kontinuální tváření.

2B116 Vibrační testovací systémy, jejich zařízení a součásti:

a. Vibrační testovací systémy používající techniky se zpětnou vazbou nebo uzavřenou smyčkou a zahrnující číslicovou řídicí jednotku, schopné dosažení vibrací systému o hodnotě 10 g rms nebo více v celém rozsahu mezi 20 Hz až 2000 Hz a vyvozující síly měřené na 'holém stole' 50 kN nebo větší;

b. Číslicové řídicí jednotky kombinované se speciálně navrženým softwarem pro vibrační testy, se „šířkou pásma v reálném čase“ větší než 5 kHz, konstruované pro použití se systémy pro zkoušení vibrací specifikovanými v 2B116.a.;

c. Budiče vibrací (vibrační jednotky) s připojenými zesilovači nebo bez nich, schopné vyvozovat síly měřené na 'holém stole' 50 kN nebo větší a použitelné v systémech pro zkoušení vibrací specifikovaných v 2B116.a.;

d. Upevňovací konstrukce pro zkušební vzorky a elektronické jednotky určené pro kombinaci více vibračních jednotek do kompletního systému, schopného poskytovat efektivní složenou sílu měřenou na 'holém stole' 50 kN nebo větší a použitelné ve vibračních systémech specifikovaných v 2B116.a.

Technická poznámka:

Ve 2B116 'holý stůl' znamená plochý stůl nebo povrch bez upínacích přípravků nebo příslušenství.

2B117 Zařízení a řídicí systémy procesu, jiné než ty, které jsou specifikovány v 2B004, 2B005.a., 2B104 nebo 2B105, konstruovaná nebo upravená pro zahušťování a pyrolýzu strukturních kompozitů raketových trysek a čelních štítů kosmických lodí pro návrat do atmosféry.

2B119 Vyvažovací stroje a jejich příslušná vybavení:

Viz také 2B219

a. Vyvažovači stroje, které mají všechny dále uvedené charakteristiky:

• 1. Nejsou schopné vyvažování rotorů/montážních celků o hmotnosti větší než 3 kg;

• 1. Jsou schopné vyvažování rotorů/montážních celků při otáčkách větších než 12500 min^-1;

• 1. Jsou schopné vyvažování ve dvou nebo více rovinách; a

• 1. Jsou schopné vyvažování až do zbytkového měrného nevývažku 0,2 g mm/kg hmotnosti rotoru;

Poznámka: 2B119.a. nekontroluje vyvažovací stroje konstruované nebo upravené pro dentální nebo jiná lékařská zařízení.

b. Kontrolní hlavice konstruované nebo upravené pro stroje specifikované v 2B119.a.

Technická poznámka:

Kontrolní hlavice jsou někdy známy jako vyvažovací nástroje.

2B120 Simulátory pohybu nebo obráběcí stolice, které mají všechny dále uvedené charakteristiky:

a. Dvě nebo více os;

b. Sběrací kroužky schopné přenosu elektrické energie a/nebo informací signálu; a

c. Které mají některou z dále uvedených charakteristik:

• 1. Pro každou jednotlivou osu všechny dále uvedené charakteristiky:

a. Schopnost otáčení 400 °/s nebo větší, nebo 30 °/s nebo menší; a

b. Rozlišovací schopnost otáčení 6 °/s nebo lepší a přesnost 0,6 °/s nebo lepší;

• 1. Nejmenší stabilitu rychlosti ± 0,05 % nebo lepší zprůměrovanou v rozsahu 10° nebo více: nebo

• 1. Přesnost nastavení polohy 5 úhlových vteřin nebo lepší.

Poznámka: 2B120 nekontroluje otočné stoly konstruované nebo upravené pro obráběcí stroje nebo pro lékařská zařízení. Pro kontroly otočných stolů obráběcích strojů viz 2B008.

2B121 Stoly pro nastavení polohy (zařízení schopné přesného nastavení úhlové polohy v jakékoliv ose), jiné než specifikované v 2B120, které mají obě dále uvedené charakteristiky:

a. Dvě osy nebo více; a

b. Přesnost nastavení polohy rovnou nebo lepší než 5 úhlových vteřin.

Poznámka: 2B121 nekontroluje otočné stoly konstruované nebo upravené pro obráběcí stroje nebo lékařská zařízení. Pro kontroly otočných stolů obráběcích strojů viz 2B008.

2B122 Odstředivky schopné zrychlení přes 100 g a mající sběrací kroužky schopné přenášet elektrickou energii a informace signálů.

2B201 Obráběcí stroje dále uvedené, jiné než specifikované v 2B001, pro úběr nebo dělení kovů, keramiky nebo „kompozitů“, které podle technické specifikace výrobce mohou být vybaveny elektronickými zařízeními pro souvislou „interpolaci tvaru“ ve dvou nebo více osách:

a. Obráběcí stroje pro frézování, které mají některou z dále uvedených charakteristik:

• 1. Přesnost nastavení polohy při „všech dostupných kompenzacích“ 4,5 μm nebo lepší podle ČSN ISO 230/2 (1999) podél kterékoli lineární osy; nebo

• 1. Dvě nebo více otočných os pro interpolaci tvaru;

Poznámka: 2B201.a. nekontroluje frézovací stroje, které mají dále uvedené charakteristiky:

a. Dráhu pohybu v ose x delší než 2 m; a

b. Celkovou přesnost nastavení polohy v ose x horší než 30 μm.

b. Obráběcí stroje pro broušení, které mají některou z dále uvedených charakteristik:

• 1. Přesnost nastavení polohy při „všech dostupných kompenzacích“ 3 μm nebo lepší podle ČSN ISO 230/2 (1999) podél kterékoli lineární osy; nebo

• 1. Dvě nebo více otočných os pro interpolaci tvaru;

Poznámka: 2B201.b. nekontroluje následující brusky:

a. Brusky pro broušení vnějších, vnitřních nebo obojích válcových ploch, které mají všechny dále uvedené vlastnosti:

• 1. Jsou omezeny na broušení válcových ploch;

• 1. Jsou omezeny maximální velikostí obrobku 150 mm na vnějším průměru nebo délce;

• 1. Nemají více než dvě osy, které lze řídit současně za účelem „interpolace tvaru“; a

• 1. Nemají osu c pro interpolaci tvaru;

b. Souřadnicové brusky pouze s osami x, y, c a a, kde osa c je použita k udržení brousicího kotouče v poloze kolmé k broušenému povrchu a osa a je uspořádána pro broušení bubnových vaček;

c. Brusky (ostřičky) na nože nebo frézy se „softwarem“ speciálně vyvinutým pro výrobu nožů nebo fréz; nebo

d. Brusky na klikové nebo vačkové hřídele.

2B204 „Izostatické lisy“, jiné než specifikované v 2B004 nebo 2B104 a příslušná vybavení:

a. „Izostatické lisy“, které mají obě z dále uvedených charakteristik:

• 1. Schopné dosahovat pracovní tlak 69 MPa nebo vyšší; a

• 1. Vybavené komorou s vnitřním průměrem dutiny přesahujícím 152 mm;

b. Zápustky, formy a řídicí systémy speciálně konstruované pro „izostatické lisy“ specifikované v 2B204.a.

Technická poznámka:

Ve 2B204 je rozměr vnitřní komory rozměrem té komory, v níž se dosahuje současně pracovní teplota a pracovní tlak a do kterého se nezahrnují formy. Tento rozměr bude menší z hodnot buď vnitřního průměru tlakové komory nebo vnitřního průměru izolované pecní komory v závislosti na tom, která z těchto komor je umístěna ve druhé.

2B206 Stroje, nástroje nebo systémy pro kontrolu rozměrů, jiné než specifikované v 2B006:

a. Stroje pro kontrolu rozměrů řízené počítačem nebo „číslicově řízené“, které mají obě dále uvedené charakteristiky:

• 1. Dvě nebo více os; a

• 1. Jednorozměrovou „nejistotu měření“ délky (1,25 + L/1000) μm nebo lepší testovanou snímačem o „přesnosti“ lepší než 0,2 μm (L je měřená délka v milimetrech) (viz VDI/VDE 2617 části 1, a 2);

b. Systémy pro souvislou délkovou – úhlovou kontrolu polokoulí, které mají obě dále uvedené charakteristiky:

• 1. „Nejistotu měření“ podél kterékoli z lineárních os 3,5 μm nebo lepší na délce 5 mm; a

• 1. „Odchylku úhlové polohy“ 0,02° nebo lepší.

Poznámka 1: Obráběcí stroje, které mohou být použity jako měřicí stroje spadají pod kontrolu, pokud dosahují nebo přesahují kritéria specifikovaná pro funkci obráběcího stroje nebo funkci měřicího stroje.

Poznámka 2: Stroj specifikovaný ve 2B206 je kontrolován, pokud přesahuje prahové hodnoty kdekoli v měřicím rozsahu.

Technické poznámky:

• 1. Snímač použitý pro určení nejistoty měření systému pro kontrolu rozměrů je popsán ve VDI/VDE 2617 části 2, 3 a 4.

• 1. Všechny hodnoty parametrů měření v 2B206 představují plus/minus tj. nikoli celé pásmo.

2B207 „Roboty“, „koncové efektory“ a řídicí jednotky, jiné než specifikované v 2B007:

a. „Roboty“ a „koncové efektory“ speciálně konstruované v souladu s národními bezpečnostními předpisy pro manipulaci s vysoce výbušnými látkami (např. dodržení elektrického kódu pro vysoce výbušné látky);

b. Řídicí jednotky speciálně konstruované pro kterýkoliv z „robotů“ nebo „koncových efektorů“ specifikovaných v 2B207.a.

2B209 Stroje pro kontinuální tváření, kovotlačitelské tvářecí stroje, schopné funkcí kontinuálního tváření, jiné než specifikované ve 2B009 nebo 2B109, a tvářecí trny:

a. Stroje, které mají obě dále uvedené charakteristiky:

• 1. Tři nebo více kladek (aktivních nebo vodicích); a

• 1. Které podle technické specifikace výrobce mohou být vybaveny jednotkami „číslicového řízení“ nebo řízeny počítačem;

b. Trny pro tváření válcových rotorů s vnitřním průměrem mezi 75 mm a 400 mm.

Poznámka: 2B209.a. zahrnuje stroje, které mají pouze jednu kladku určenou pro tváření materiálu a dvě pomocné kladky pro oporu tvářecího trnu, které se však nepodílejí přímo na procesu tváření.

2B219 Odstředivé vyvažovací stroje ve více rovinách, pevné nebo přenosné, horizontální nebo vertikální:

a. Odstředivé vyvažovací stroje konstruované pro vyvažování pružných rotorů s délkou 600 mm nebo větší, které mají všechny dále uvedené charakteristiky:

• 1. Oběžný průměr nebo průměr ložiskového čepu větší než 75 mm;

• 1. Hmotnostní kapacitu od 0,9 kg do 23 kg; a

• 1. Schopné vyvažovacích otáček větších než 5000 min^-1“;

b. Odstředivé vyvažovací stroje konstruované pro vyvažování dutých válcových součástí rotorů, které mají všechny dále uvedené charakteristiky:

• 1. Průměr ložiskového čepu větší než 75 mm;

• 1. Hmotnostní kapacitu od 0,9 kg do 23 kg; a

• 1. Schopné vyvážení na zbytkový nevývažek v jedné rovině 0,01 kg.mm/kg nebo menší (lepší); a

• 1. Typ s řemenovým pohonem.

2B225 Dálkově ovládané manipulátory, které lze použít k dálkově řízeným činnostem v radiochemické separaci nebo horkých komorách, které mají jednu z dále uvedených charakteristik:

a. Schopnost pronikat stěnou horké komory o tloušťce 0,6 m nebo větší (operací skrze stěnu); nebo

b. Schopnost přemostit horní okraj stěny horké komory o tloušťce 0,6 m nebo větší (operací přes stěnu).

Technická poznámka:

Dálkově ovládané manipulátory umožňují převádění činností lidské osoby na manipulační rameno a koncové upínací prostředky. Mohou být typu 'master/slave' nebo ovládané prostřednictvím joysticku nebo klávesnicí.

2B226 Indukční pece s řízenou atmosférou (vakuum nebo inertní plyn) a pro ně navržené zdroje energie:

Viz také 3B.

a. Pece, které mají všechny dále uvedené charakteristiky:

• 1. Schopné provozu nad 1123 K (850 °C);

• 1. Indukční cívky o průměru 600 mm nebo menším; a

• 1. Konstruované pro příkon 5 kW nebo větší;

b. Zdroje energie se specifikovaným výkonem 5 kW nebo větším, speciálně konstruované pro pece specifikované v 2B226.a.

Poznámka: 2B226.a. nekontroluje pece konstruované pro zpracování polovodičových destiček.

2B227 Metalurgické tavicí a licí pece vakuové nebo s jinou řízenou atmosférou a příslušné vybavení:

a. Obloukové pece pro přetavování a lití, které mají obě dále uvedené charakteristiky:

• 1. Využitelnou elektrodovou kapacitu mezi 1000 cm^3 a 20000 cm^3; a

• 1. Schopné provozu při tavicích teplotách nad 1973 K (1700 °C);

b. Tavicí pece s elektronovým paprskem a plazmové rozprašovací a tavicí pece, které mají obě dále uvedené charakteristiky:

• 1. Příkon 50 kW nebo větší; a

• 1. Schopné provozu při tavicích teplotách nad 1473 K (1200 °C).

c. Systémy řízení počítačem a monitorovací systémy speciálně sestavené pro kteroukoli z pecí specifikovaných v 2B227.a. nebo b.

2B228 Zařízení pro výrobu nebo montáž rotorů, vyrovnávací zařízení rotorů, trny a formy pro tváření vlnovců:

a. Montážní zařízení rotorů pro montáž sekcí trubek rotorů plynových odstředivek, přepážek a koncových víček;

Poznámka: 2B228.a. zahrnuje přesné trny, upínací přípravky a stroje pro uložení lisované za tepla.

b. Vyrovnávací zařízení pro usměrňování sekcí trubek rotorů plynových odstředivek na společnou osu;

Technická poznámka:

Ve 2B228.b. se takové zařízení obvykle skládá z přesných měřicích sond spojených s počítačem, který na základě jejich údajů řídí činnost např. pneumatických otočných ramen používaných pro nasměrování sekcí trubek rotoru.

c. Trny a formy pro tváření vlnovců s jedním záhybem;

Technická poznámka:

Ve 2B228.c. mají vlnovce všechny dále uvedené charakteristiky:

• 1. Vnitřní průměr mezi 75 mm a 400 mm;

• 1. Délku 12,7 mm nebo větší;

• 1. Hloubku jednoduchého záhybu větší než 2 mm; a

• 1. Jsou vyrobeny z vysoce pevných hliníkových slitin, vysokopevnostní oceli nebo vysoce pevných „vláknitých materiálů“.

2B230 „Měřiče tlaku“ schopné měření absolutního tlaku v kterémkoli bodě v rozsahu od 0 kPa do 13 kPa, které mají obě z dále uvedených charakteristik:

a. Snímače tlaku vyrobené z hliníku, slitin hliníku, niklu, nebo slitin niklu, s více než 60 % hmotnostními niklu, nebo takovými materiály chráněné; a

b. Které mají jednu z dále uvedených charakteristik:

• 1. Měřicí rozsah menší než 13 kPa a 'přesnost' lepší než ± 1 % celkového rozsahu stupnice; nebo

• 1. Měřicí rozsah 13 kPa nebo větší a 'přesnost' lepší než ± 130 Pa.

Technická poznámka:

Pro účely 2B230 zahrnuje 'přesnost' nelinearitu, hysterezi a opakovatelnost při teplotě okolí.

2B231 Vakuové vývěvy, které mají všechny dále uvedené charakteristiky:

a. Velikost vstupního hrdla 380 mm nebo větší;

b. Sací průtok 15 m^3/s nebo větší; a

c. Schopnost dosahovat výsledného vakua lepšího než 13 mPa.

Technické poznámky:

• 1. Sací průtok je určován v bodě měření s plynným dusíkem nebo vzduchem.

• 1. Výsledné vakuum je určováno na vstupu do vývěvy při zablokování tohoto vstupu.

2B232 Vícestupňové vystřelovací systémy s lehkým plynem nebo jiné vysokorychlostní vystřelovací systémy (cívkové, elektromagnetické, elektrotermální nebo jiné zdokonalené systémy) schopné urychlit projektily na 2 km/s nebo více.

2B350 Zařízení, příslušenství a součásti pro chemickou výrobu:

a. Reakční nádoby nebo reaktory, s míchadly nebo bez nich, s celkovým vnitřním (geometrickým) objemem větším než 0,1 m^3 (100 litrů) a menším než 20 m^3 (20000 litrů), jejichž všechny povrchy, které přicházejí do přímého styku se zpracovávanými nebo uchovávanými chemikáliemi, jsou vyrobeny z některého z dále uvedených materiálů:

• 1. Slitiny s více než 25 % hmotnostních niklu a 20 % hmotnostních chromu;

• 1. Fluoropolymery;

• 1. Sklo (včetně zeskelněného nebo smaltovaného povrchu nebo skleněného obložení);

• 1. Nikl nebo slitiny s více než 40 % hmotnostních niklu;

• 1. Tantal nebo slitiny tantalu;

• 1. Titan nebo slitiny titanu; nebo

• 1. Zirkonium nebo slitiny zirkonia;

b. Míchadla pro použití v reakčních nádobách nebo reaktorech specifikovaných v 2B350.a., dále oběžná kola, lopatky nebo hřídele navržené pro taková míchadla, kde všechny povrchy míchadel, které přicházejí do přímého styku se zpracovávanými nebo uchovávanými chemikáliemi, jsou vyrobeny z některého z dále uvedených materiálů:

• 1. Slitiny s více než 25 % hmotnostních niklu a 20 % hmotnostních chromu;

• 1. Fluoropolymery;

• 1. Sklo (včetně zeskelněného nebo smaltovaného povrchu nebo skleněného obložení);

• 1. Nikl nebo slitiny s více než 40 % hmotnostních niklu;

• 1. Tantal nebo slitiny tantalu;

• 1. Titan nebo slitiny titanu; nebo

• 1. Zirkonium nebo slitiny zirkonia.

c. Skladovací zásobníky, kontejnery nebo nádrže s celkovým vnitřním (geometrickým) objemem větším než 0,1 m^3 (100 litrů), jejichž všechny povrchy, které přicházejí do styku se zpracovávanými nebo uchovávanými chemikáliemi, jsou vyrobeny z některého z dále uvedených materiálů:

• 1. Slitiny s více než 25 % hmotnostních niklu a 20 % hmotnostních chromu;

• 1. Fluoropolymery;

• 1. Sklo (včetně zeskelněného nebo smaltovaného povrchu nebo skleněného obložení);

• 1. Nikl nebo slitiny s více než 40 % hmotnostních niklu;

• 1. Tantal nebo slitiny tantalu;

• 1. Titan nebo slitiny titanu; nebo

• 1. Zirkonium nebo slitiny zirkonia;

d. Výměníky tepla nebo kondenzátory s plochou povrchu pro přenos tepla větší než 0,15 m^2 a menší než 20 m^2, dále trubky, desky, kotouče nebo špalky (cívky) navržené pro takové výměníky tepla nebo kondenzátory, jejichž všechny povrchy, které přicházejí do styku se zpracovávanými nebo uchovávanými chemikáliemi, jsou vyrobeny z některého z dále uvedených materiálů:

• 1. Slitiny s více než 25 % hmotnostních niklu a 20 % hmotnostních chromu;

• 1. Fluoropolymery;

• 1. Sklo (včetně zeskelněného nebo smaltovaného povrchu nebo skleněného obložení);

• 1. Grafit nebo 'uhlíkový grafit';

• 1. Nikl nebo slitiny s více než 40 % hmotnostních niklu;

• 1. Tantal nebo slitiny tantalu;

• 1. Titan nebo slitiny titanu;

• 1. Zirkonium nebo slitiny zirkonia;

• 1. Karbid křemíku; nebo

• 1. Karbid titanu;

e. Destilační nebo absorpční kolony s vnitřním průměrem větším než 0,1 m, dále rozdělovače kapaliny, rozdělovače par nebo sběrače kapalin navržené pro takové destilační nebo absorpční kolony, jejichž všechny povrchy, které přicházejí do přímého styku se zpracovávanými chemikáliemi, jsou vyrobeny z některého z dále uvedených materiálů:

• 1. Slitiny s více než 25 % hmotnostních niklu a 20 % hmotnostních chromu;

• 1. Fluoropolymery;

• 1. Sklo (včetně zeskelněného nebo smaltovaného povrchu nebo skleněného obložení);

• 1. Grafit nebo 'uhlíkový grafit';

• 1. Nikl nebo slitiny s více než 40 % hmotnostních niklu;

• 1. Tantal nebo slitiny tantalu;

• 1. Titan nebo slitiny titanu; nebo

• 1. Zirkonium nebo slitiny zirkonia;

f. Dálkově ovládaná plnicí zařízení, jejichž všechny povrchy, které přicházejí do přímého styku se zpracovávanými chemikáliemi, jsou vyrobeny z některého z dále uvedených materiálů:

• 1. Slitiny s více než 25 % hmotnostních niklu a 20 % hmotnostních chromu;

nebo

• 1. Nikl nebo slitiny s více než 40 % hmotnostních niklu;

g. Ventily s nominálním rozměrem 10 mm, jejichž všechny povrchy, které přicházejí do přímého styku se zpracovávanými nebo uchovávanými chemikáliemi, jsou vyrobeny z některého z dále uvedených materiálů:

• 1. Slitiny s více než 25 % hmotnostních niklu a 20 % hmotnostních chromu;

• 1. Fluoropolymery;

• 1. Sklo (včetně zeskelněného nebo smaltovaného povrchu nebo skleněného obložení);

• 1. Nikl nebo slitiny s více než 40 % hmotnostních niklu;

• 1. Tantal nebo slitiny tantalu;

• 1. Titan nebo slitiny titanu; nebo

• 1. Zirkonium nebo slitiny zirkonia;

h. Vícenásobné chráněné potrubí vybavené vývodem pro detekci úniku, jehož všechny povrchy, které přicházejí do přímého styku se zpracovávanými nebo uchovávanými chemikáliemi, jsou vyrobeny z některého z dále uvedených materiálů:

• 1. Slitiny s více než 25 % hmotnostních niklu a 20 % hmotnostních chromu;

• 1. Fluoropolymery;

• 1. Sklo (včetně zeskelněného nebo smaltovaného povrchu nebo skleněného obložení);

• 1. Grafit nebo 'uhlíkový grafit';

• 1. Nikl nebo slitiny s více než 40 % hmotnostních niklu;

• 1. Tantal nebo slitiny tantalu;

• 1. Titan nebo slitiny titanu; nebo

• 1. Zirkonium nebo slitiny zirkonia;

i. Vícenásobně těsněné, s uzavřeným nebo magnetickým pohonem, vlnovcové nebo membránové vývěvy/čerpadla s maximálním, výrobcem udávaným průtokem větším než 0,6 m^3/h nebo vakuové vývěvy s maximálním, výrobcem udávaným průtokem větším než 5 m^3/h (při standardní teplotě (273 K (0 °C) a tlaku (101,30 kPa)), dále pouzdra (kostry čerpadel), předlisované podložky plášťů, oběžná kola, rotory nebo trysky proudových čerpadel navržené pro taková čerpadla, jejichž všechny povrchy, které přicházejí do přímého styku se zpracovávanými chemikáliemi jsou vyrobeny z některého z dále uvedených materiálů:

• 1. Slitiny s více než 25 % hmotnostních niklu a 20 % hmotnostních chromu;

• 1. Keramika;

• 1. Ferrosilicium;

• 1. Fluoropolymery;

• 1. Sklo (včetně zeskelněného nebo smaltovaného povrchu nebo skleněného obložení);

• 1. Grafit nebo 'uhlíkový grafit';

• 1. Nikl nebo slitiny s více než 40 % hmotnostních niklu;

• 1. Tantal nebo slitiny tantalu;

• 1. Titan nebo slitiny titanu; nebo

• 1. Zirkonium nebo slitiny zirkonia;

j. Spalovny chemických odpadů pro likvidaci chemikálií specifikovaných v 1C350, které mají speciálně konstruované systémy přívodu odpadů, speciální manipulační systémy a průměrnou teplotu ve spalovací komoře větší než 1273 K (1000 °C), jejichž všechny povrchy systému přívodu odpadů, které přicházejí do přímého styku s tokem odpadů jsou vyrobeny z některého z dále uvedených materiálů nebo jím obloženy:

• 1. Slitiny s více než 25 % hmotnostních niklu a 20 % hmotnostních chromu;

• 1. Keramika; nebo

• 1. Nikl nebo slitiny s více než 40 % hmotnostních niklu.

Technická poznámka:

'Uhlíkový grafit' je směs amorfního uhlíku a grafitu, ve které obsah grafitu činí 8 % hmotnostních nebo větší.

2B351 Monitorovací systémy toxických plynů a k tomu odpovídající detektory:

a. Konstruované pro nepřetržitý provoz a použitelné k detekci bojových chemických látek nebo chemikálií specifikovaných v 1C350 při koncentracích nižších než 0,3 mg/m^3; nebo

b. Určené k detekci na bázi inhibiční aktivity cholinesterasy.

2B352 Zařízení použitelná ke zpracování biologických materiálů:

a. Kompletní biotechnologické vybavení ochranného obalu úrovně P3 nebo P4 ochranného obalu;

Technická poznámka:

Úrovně P3 nebo P4 (BL3, BL4, L3, L4) ochranného obalu jsou specifikovány v příručce Světové zdravotnické organizace WHO Laboratory Biosafety (2. vydání, Ženeva 1993).

b. Fermentory, schopné kultivace patogenních „mikroorganismů“, virů nebo tvorby toxinů bez úniku aerosolů s celkovou kapacitou 20 l nebo větší;

Technická poznámka:

Fermentory zahrnují bioreaktory, chemostaty a systémy s kontinuálním průtokem.

c. Odstředivé separátory, schopné kontinuálního provozu bez úniku aerosolů, které mají všechny dále uvedené charakteristiky:

• 1. Průtokovou rychlost přesahující 100 l/hod;

• 1. Součásti z leštěné nerezové oceli nebo titanu;

• 1. Jeden nebo více těsnicích uzávěrů v ochranném prostoru s parami; a

• 1. Schopné in situ sterilizace v uzavřeném stavu;

Technická poznámka:

Odstředivé separátory zahrnují i dekantéry.

d. Zařízení pro příčnou (tangenciální) filtraci schopné kontinuální separace toku bez úniku aerosolů, které mají obě dále uvedené charakteristiky:

• 1. Plochu 5 m^2 nebo větší; a

• 1. Schopné in situ sterilizace;

e. Parou sterilizovatelné zařízení pro vysušování mrazem s kapacitou kondenzátoru větší než 10 kg ledu za 24 hodin a menší než 1000 kg ledu za 24 hodin;

f. Ochranná a obalová zařízení:

• 1. Poloviční nebo úplné ochranné obleky nebo masky závislé na dodávce zdrojového vnějšího vzduchu a pracující při positivním tlaku;

Poznámka: 2B352.f.1. nekontroluje obleky navržené k nošení se zabudovaným dýchacím přístrojem.

• 1. Biologické bezpečnostní skříně nebo izolátory třídy III s podobnými výkonnostními normami;

Poznámka: Ve 2B352.f.2. izolátory zahrnují i pružné izolátory, sušicí boxy, anaerobní komory a rukávové boxy a digestoře s laminárním prouděním (uzavřené s vertikálním prouděním).

g. Komory navržené k aerosolovým imunologickým testům s „mikroorganismy“, viry nebo „toxiny“, o kapacitě 1 m^3 nebo větší.

2C Materiály

Žádné.

2D Software

2D001 „Software“ jiný než uvedený ve 2D002, speciálně určený nebo upravený pro „vývoj“, „výrobu“ nebo „použití“ zařízení uvedeného ve 2A001 nebo 2B001 až 2B009.

2D002 „Software“ pro elektronické jednotky, i když je uložen v elektronické jednotce nebo systému, umožňující takové elektronické jednotce nebo systému vykonávat funkce jednotky „číslicového řízení“ schopný koordinovat současně více než 4 osy pohybů za účelem „interpolace tvaru“.

Poznámka: 2D002 nekontroluje „software“ speciálně určený nebo upravený pro činnost obráběcích strojů nespecifikovaných v Kategorii 2.

2D101 „Software“ speciálně určený nebo upravený pro „použití“ zařízení uvedeného ve 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 nebo 2B119 až 2B122.

Viz také 9D004.

2D201 „Software“ speciálně určený pro „použití“ zařízení uvedeného ve 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 nebo 2B227.

2D202 „Software“ speciálně určený nebo upravený pro „vývoj“, „výrobu“ nebo „použití“ zařízení uvedeného ve 2B201.

2E Technologie

2E001 „Technologie“ podle Všeobecné poznámky k technologii pro „vývoj“ zařízení nebo „softwaru“ uvedených ve 2A, 2B nebo 2D.

2E002 „Technologie“ podle Všeobecné poznámky k technologii pro výrobu zařízení uvedeného ve 2A nebo 2B.

2E003 Jiné „technologie“:

a. „Technologie“ pro „vývoj“ interaktivní grafiky jako integrované části v jednotkách „číslicového řízení“ pro přípravu nebo úpravu součástkových programů;

b. „Technologie“ pro kovozpracující výrobní procesy:

• 1. „Technologie“ pro navrhování nářadí, lisovacích nástrojů nebo upínacích přípravků speciálně určených pro některý z dále uvedených procesů:

a. „Superplastické tváření“;

b. „Difúzní spojování“; nebo

c. „Přímočinné hydraulické lisování“;

• 1. Technická data obsahující technologické postupy nebo parametry pro řízení:

a. „Superplastického tváření“ slitin hliníku, slitin titanu nebo „vysoce legovaných slitin“:

• 1. Příprava povrchu;

• 1. Rychlost deformace;

• 1. Teplota;

• 1. Tlak;

b. „Difúzního spojování“ „vysoce legovaných slitin“ nebo titanových slitin:

• 1. Příprava povrchu;

• 1. Teplota;

• 1. Tlak;

c. „Přímočinného hydraulického lisování“ hliníkových slitin nebo titanových slitin:

• 1. Tlak;

• 1. Doba cyklu;

d. „Izostatického zhutňování za tepla“ titanových slitin, hliníkových slitin nebo „vysoce legovaných slitin“:

• 1. Teplota;

• 1. Tlak;

• 1. Doba cyklu;

c. „Technologie“ pro „vývoj“ nebo „výrobu“ hydraulických přetahovacích strojů a jejich lisovacích nástrojů pro výrobu konstrukcí draků letadel;

d. „Technologie“ pro „vývoj“ zařízení pro generování strojních obráběcích instrukcí (tj. součástkových programů) z konstrukčních dat uložených v jednotkách „číslicového řízení“;

e. „Technologie“ pro „vývoj“ integrovaného „softwaru“ pro začlenění expertních systémů pro vyspělou podporu rozhodování o dílenských operacích do jednotek „číslicového řízení“;

f. „Technologie“ pro aplikaci anorganických krycích povlaků nebo povlaků pro modifikaci anorganického povrchu, (uvedených ve sloupci 3 dále uvedené tabulky) na jiné než elektronické podkladové substráty (uvedené ve sloupci 2 dále uvedené tabulky) prostřednictvím nanášecích procesů uvedených ve sloupci 1 dále uvedené tabulky a definovaných v Technické poznámce.

Poznámka: Tabulka a Technická poznámka jsou uvedeny za položkou 2E301.

2E101 „Technologie“ podle Všeobecné poznámky k technologii pro „použití“ zařízení nebo „softwaru“ uvedených v 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119 až 2B122 nebo 2D101.

2E201 „Technologie“ podle Všeobecné poznámky k technologii pro „použití“ zařízení nebo „softwaru“ uvedených v 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b., 2B007.c., 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 až 2B232, 2D201 nebo 2D202.

2E301 „Technologie“ podle Všeobecné poznámky k technologii pro „použití“ zboží uvedeného v 2B350 až 2B352.

TABULKA – TECHNIKY NANÁŠENÍ POVLAKŮ

Čísla v závorkách odkazují na poznámky v následující tabulce.

1. Proces nanášení (1)	2. Podkladový substrát	3. Výsledný povlak
A. Chemické nanášení v parní fázi (CVD)	„Vysoce legované slitiny“	Aluminidy pro vnitřní kanály
	Keramika (19) a skla s nízkou roztažností (14)	Silicidy Karbidy Dielektrické vrstvy (15) Diamant Uhlík s vlastnostmi diamantu (17)
	„Kompozity“ s uhlík-uhlíkovou, keramickou a kovovou „matricí“	Silicidy Karbidy Žáruvzdorné kovy Jejich směsi (4) Dielektrické vrstvy (15) Aluminidy Legované aluminidy (2) Nitrid boru
	Cementovaný karbid wolframu (16), karbid křemíku (18)	Karbidy Wolfram Jejich směsi (4) Dielektrické vrstvy (15)
	Molybden a molybdenové slitiny	Dielektrické vrstvy (15)
	Berylium a slitiny berylia	Dielektrické vrstvy (15) Diamant Uhlík s vlastnostmi diamantu (17)
	Materiály okének čidel (9)	Dielektrické vrstvy (15) Diamant Uhlík s vlastnostmi diamantu (17)
B. Fyzikální nanášení v parní fázi s tepelným odpařením (TE-PVD)
B.1. Fyzikální nanášení v parní fázi (PVD): Elektronový paprsek (EB-PVD)	„Vysoce legované slitiny“	Legované silicidy Legované aluminidy (2) (MCrAlX (5) Modifikovaný oxid zirkoničitý (12) Silicidy Aluminidy Jejich směsi (4)
	Keramika (19) a skla s nízkou roztažností (14)	Dielektrické vrstvy (15)
	Korozivzdorná ocel (7)	MCrAlX(5) Modifikovaný oxid zirkoničitý (12) Jejich směsi (4)
	Kompozity s uhlík-uhlíkovou, keramickou a kovovou „matricí“	Silicidy Karbidy Žáruvzdorné kovy Jejich směsi (4) Dielektrické vrstvy (15) Nitrid boru
	Cementovaný karbid wolframu (16) Karbid křemíku (18)	Karbidy Wolfram Jejich směsi (4) Dielektrické vrstvy (15)
	Molybden a slitiny molybdenu	Dielektrické vrstvy (15)
	Berylium a slitiny berylia	Dielektrické vrstvy (15) Boridy Berylium
	Materiály okének čidel (9)	Dielektrické vrstvy (15)
	Slitiny titanu (13)	Boridy Nitridy
B.2. Fyzikální nanášení v parní fázi s odporovým ohřevem za podpory iontů (PVD) (iontové pokovování)	Keramika (19) a skla s nízkou roztažností (14)	Dielektrické vrstvy (15) Uhlík s vlastnostmi diamantu (17)
	„Kompozity“ s uhlík-uhlíkovou, keramickou a kovovou „matricí“	Dielektrické vrstvy (15)
	Cementovaný karbid wolframu (16), Karbid křemíku (18)	Dielektrické vrstvy (15)
	Molybden a slitiny molybdenu	Dielektrické vrstvy (15)
	Berylium a slitiny berylia	Dielektrické vrstvy (15)
	Materiály okének čidel (9)	Dielektrické vrstvy (15) Uhlík s vlastnostmi diamantu (17)
B.3 Fyzikální nanášení v parní fázi (PVD): odpařování „laserem“	Keramika (19) a skla s nízkou roztažností (14)	Silicidy Dielektrické vrstvy (15) Uhlík s vlastnostmi diamantu (17)
	„Kompozity“ s uhlík-uhlíkovou, keramickou a kovovou „matricí“	Dielektrické vrstvy (15)
	Cementovaný karbid wolframu (16), karbid křemíku (18)	Dielektrické vrstvy (15)
	Molybden a slitiny molybdenu	Dielektrické vrstvy (15)
	Berylium a slitiny berylia	Dielektrické vrstvy (15)
	Materiály okének čidel (9)	Dielektrické vrstvy (15) Uhlík s vlastnostmi diamantu
B.4 Fyzikální nanášení v parní fázi (PVD): katodický obloukový výboj	„Vysoce legované slitiny“	Legované silicidy Legované aluminidy (2) MCrAlX (5)
	„Kompozity“ s polymerovou (11) a organickou „matricí“	Boridy Karbidy Nitridy Uhlík s vlastnostmi diamantu (17)
C. Cementování v prášku (10) (viz A výše uvedené pro cementování neprováděné v prášku)	„Kompozity“ s uhlík-uhlíkovou, keramickou a kovovou „matricí“	Silicidy Karbidy Jejich směsi (4)
	Slitiny titanu (13)	Silicidy Aluminidy Legované aluminidy (2)
	Žáruvzdorné kovy a slitiny (8)	Silicidy Oxidy
D. Plazmové stříkání	„Vysoce legované slitiny“	MCrAlX(5) Modifikovaný oxid zirkoničitý (12) Jejich směsi (4) Obrusný nikl-grafit Obrusné materiály obsahující Ni-Cr-Al Obrusný Al-Si-polyester Legované aluminidy (2)
	Slitiny hliníku (6)	MCrAlX (5) Modifikovaný oxid zirkoničitý (12) Silicidy Jejich směsi (4)
	Žáruvzdorné kovy a slitiny (8)	Aluminidy Silicidy Karbidy
	Korozivzdorná ocel (7)	MCrAlX (5) Modifikovaný oxid zirkoničitý (12) Jejich směsi (4)
	Slitiny titanu (13)	Karbidy Aluminidy Silicidy Legované aluminidy (2) Obrusný nikl-grafít Obrusné materiály obsahující Ni-Cr-Al Obrusný Al-Si-polyester
E. Nanášení řídké kaše	Žáruvzdorné kovy a slitiny (8)	Tavené silicidy Tavené aluminidy, nikoli pro odporové topné prvky
	„Kompozity“ s uhlík-uhlíkovou, keramickou a kovovou „matricí“	Silicidy Karbidy Jejich směsi (4)
F. Nanášení naprašováním	„Vysoce legované slitiny“	Legované silicidy Legované aluminidy (2) Aluminidy modifikované ušlechtilými kovy (3) MCrAlX (5) Modifikovaný oxid zirkoničitý (12) Platina Jejich směsi (4)
	Keramika a skla s nízkou roztažností (14)	Silicidy Platina Jejich směsi (4) Dielektrické vrstvy (15) Uhlík s vlastnostmi diamantu (17)
	Slitiny titanu (13)	Boridy Nitridy Oxidy Silicidy Aluminidy Legované aluminidy (2) Karbidy
	„Kompozity“ s uhlík-uhlíkovou, keramickou a kovovou „matricí“	Silicidy Karbidy Žáruvzdorné kovy Jejich směsi (4) Dielektrické vrstvy (15) Nitrid boru
	Cementovaný karbid wolframu (16) Karbid křemíku (18)	Karbidy Wolfram Jejich směsi (4) Dielektrické vrstvy (15) Nitrid boru
	Molybden a slitiny molybdenu	Dielektrické vrstvy (15)
	Berylium a slitiny berylia	Boridy Dielektrické vrstvy (15)
		Berylium
	Materiály okének čidel (9)	Dielektrické vrstvy (15) Uhlík s vlastnostmi diamantu (17)
	Žáruvzdorné kovy a slitiny (8)	Aluminidy Silicidy Oxidy Karbidy
G. Iontová implantace	Ocele pro vysokoteplotní ložiska	Přídavky chromu, tantalu nebo niobu (kolumbia)
	Slitiny titanu (13)	Boridy Nitridy
	Berylium a slitiny berylia	Boridy
	Cementovaný karbid wolframu (16))	Karbidy Nitridy

POZNÁMKY K TABULCE TECHNIK NANÁŠENÍ

• 1. Výraz 'proces nanášení' zahrnuje jak opravu a obnovu povlaků, tak i nové povlaky.

• 1. Výraz 'nanášení legovaných aluminidů' zahrnuje povlaky vyrobené v jednom nebo více krocích, ve kterých se před nebo během nanášení aluminidového povlaku nanáší jeden nebo více prvků byť i nanášených jiným nanášecím procesem. Nezahrnuje ale vícenásobné použití procesů cementace v prášku v jediném kroku pro získání legovaných aluminidů.

• 1. Výraz 'aluminidy modifikované ušlechtilými kovy' zahrnuje povlaky připravené v několika krocích, v nichž se ušlechtilý kov nebo ušlechtilé kovy ukládají nějakým jiným povlakovým procesem před nanesením aluminidového povlaku.

• 1. Výraz 'jejich směsi' zahrnuje infiltrovaný materiál, odstupňované kompozice, současně nanášené povlaky a vícevrstvové povlaky, které se získávají jedním nebo více povlakovacími procesy specifikovanými v Tabulce.

• 1. 'MCrAlX' se vztahuje na povlakovou slitinu, kde M je kobalt, železo, nikl nebo jejich kombinace a X představuje hafnium, ytrium, křemík, tantal v jakémkoli množství nebo v jiných úmyslných přísadách přes 0,01 % hmotnostních v různých podílech a kombinacích, kromě:

a. CoCrAlY povlaků, které obsahují méně než 22 % hmotnostních chromu, méně než 7 % hmotnostních hliníku a méně než 2 % hmotnostních ytria;

b. CoCrAlY povlaků, které obsahují 22 % až 24 % hmotnostních chromu, 10 % až 12 % hmotnostních hliníku a 0,5 % až 0,7 % hmotnostních ytria; nebo

c. NiCrAlY povlaků, které obsahují 21 % až 23 % hmotnostních chromu, 10 % až 12 % hmotnostních hliníku a 0,9 % až 1,1 % hmotnostních ytria.

• 1. Výrazem 'hliníkové slitiny' se rozumí slitiny, které mají mez pevnosti v tahu 190 MPa nebo větší, měřenou při 293 K (20 °C).

• 1. Výraz 'korozivzdorná ocel' znamená ocel podle AISI (American Iron and Steel Institute) řady 300 nebo ocel vyhovující ekvivalentním státním normám.

• 1. 'Žáruvzdorné materiály a slitiny' zahrnují tyto kovy a jejich slitiny: niob, molybden, wolfram a tantal.

• 1. 'Materiály okének čidel': syntetický korund, křemík, germanium, sulfid zinečnatý, selenid zinečnatý, arsenid galia, diamant, fosfid galia, safír, a tyto halogenidy kovů: materiály okének čidel s průměrem větším než 40 mm z fluoridu zirkonia a fluoridu hafnia.

• 1. „Technologie“ pro jednostupňovou cementaci v prášku pevných profilů křídel není kontrolována podle Kategorie 2.

• 1. 'Polymery': polyimid, polyester, polysulfid, polykarbonáty a polyurethany.

• 1. 'Modifikovaný oxid zirkoničitý' se vztahuje na přísady oxidů jiných kovů (např. vápníku, hořčíku, ytria, hafnia, oxidů vzácných zemin) k oxidu zirkoničitému pro stabilizaci určitých krystalografických fází a fázových skladeb. Povlaky používané pro tepelnou bariéru zhotovené z oxidu zirkoničitého modifikovaného vápníkem nebo hořčíkem mísením nebo tavením se nekontrolují.

• 1. 'Slitiny titanu' se vztahují pouze na slitiny pro letectví a kosmonautiku, které mají mez pevnosti v tahu 900 MPa nebo větší měřenou při 293 K (20 °C).

• 1. 'Skla s nízkou roztažností' znamenají skla, která mají koeficient tepelné roztažnosti 1 x 10^-7 K^-1 nebo menší měřený při 293 K (20 °C).

• 1. 'Dielektrické vrstvy' jsou povlaky vytvořené z více vrstev izolačních materiálů, v nichž se využívají interferenční vlastnosti systému složeného z materiálů o rozličném indexu lomu pro odrážení, prostup nebo absorpci různých vlnových pásem. Dielektrické vrstvy se zde vztahují na více než čtyři dielektrické vrstvy nebo vrstvy dielektrického/kovového „kompozitu“.

• 1. 'Cementovaný karbid wolframu' nezahrnuje materiály pro řezné a tvářecí nástroje sestávající z karbidu wolframu/(kobaltu, niklu), karbidu titanu/(kobaltu, niklu), karbidu chromu/nikl-chromu a karbidu chromu/niklu.

• 1. Kontrolnímu režimu nepodléhá „technologie“ speciálně vyvinutá pro nanášení uhlíku s vlastnostmi diamantu na některý z dále uvedených předmětů:

magnetické disky a hlavy, zařízení pro výrobu předmětů sloužících k jednorázovému použití, ventily pro kohoutky, akustické membrány pro reproduktory, součásti motorů pro automobily, řezné nástroje, nástroje pro lisování a děrování, kancelářské automatizované vybavení, mikrofony nebo lékařské přístroje.

• 1. 'Karbid křemíku' nezahrnuje materiály řezných a tvarovacích nástrojů.

• 1. Keramické substráty v této položce nezahrnují keramické materiály obsahující 5 % hmotnostních nebo více jílu nebo cementu a to jako samostatné složky nebo v kombinaci obou.

TECHNICKÁ POZNÁMKA K TABULCE TECHNIK NANÁŠENÍ POVLAKŮ

Procesy uvedené ve sloupci 1 tabulky jsou definovány takto:

a. Chemické nanášení v parní fázi (CVD) je proces pro nanášení krycího povlaku nebo vytvoření povlaku modifikací povrchu, při kterém se na zahřátý substrát ukládá nějaký kov, slitina, „kompozit“, dielektrikum nebo keramika. Plynné reaktanty se rozkládají nebo slučují v blízkosti substrátu, čímž dochází k nanesení žádaného materiálu ve formě prvku, slitiny nebo sloučeniny na substrát. Energii pro tento proces rozkladu nebo chemické reakce lze získat teplem substrátu, plazmou doutnavého výboje nebo „laserovým“ ozářením.

POZN. 1.: Do CVD patří tyto procesy: nanášení směrovaným proudem plynu mimo obal, pulsační CVD, řízený nukleační tepelný rozklad (CNTD), procesy CVD prováděné plazmou nebo za podpory plazmy.

POZN. 2.: Obal znamená substrát ponořený do práškové směsi.

POZN. 3.: Plynné reaktanty využívané v procesu mimo obal se získávají za použití stejných základních reakcí a parametrů jako v procesu cementace v obalu, až na to, že potahovaný substrát není v kontaktu s práškovou směsí.

b. Fyzikální nanášení v parní fázi s tepelným odpařováním (TE-PVD) je procesem přípravy krycího povlaku prováděný ve vakuu při tlaku pod 0,1 Pa za použití zdroje tepelné energie k odpařování materiálu povlaku. Výsledkem tohoto procesu je kondenzace nebo ukládání odpařené látky na vhodně umístěných substrátech.

Přidávání plynu do vakuové komory během povlakovacího procesu za účelem syntézy sloučených vrstev je obvyklou variantou tohoto procesu.

Běžnou variantou této techniky je také použití svazku iontových nebo elektronových paprsků nebo plazmy za účelem vyvolání nebo podpory nanášení povlaku. Charakteristickým rysem těchto postupů může být použití monitorů k provoznímu měření optických charakteristik a tloušťky povlaků. Specifické TE-PVD procesy jsou tyto:

• 1. PVD se svazkem elektronových paprsků používající elektronový paprsek k ohřevu a odpaření materiálu, který tvoří povlak;

• 1. PVD s odporovým ohřevem pomocí iontů používající elektrické odporové topné zdroje v kombinaci se zaměřenými iontovými paprsky k vytváření řízeného a jednotného toku odpařených povlakových materiálů;

• 1. „Laserové“ odpařování používající „laserové“ paprsky buď pulsované nebo ve spojité vlně k odpařování materiálu, který tvoří povlak;

• 1. Nanášení v katodickém oblouku používající spotřebovatelnou katodu z materiálu, který vytváří povlak a má obloukový výboj vytvořený na povrchu mžikovým sepnutím uzemněného spouštěče. Řízeným pohybem hoření oblouku se eroduje povrch katody, čímž vzniká vysoce ionizovaná plazma. Anodou může být buď kužel uchycený přes izolátor na obvodu katody nebo komora. Pro nanášení mimo osu přímé viditelnosti se používá předpětí substrátu.

POZN.: Tato definice nezahrnuje nanášení s neřízeným katodickým obloukem bez předpětí na substrátech.

• 1. Iontové pokovování je speciální modifikací obecného procesu TE-PVD, ve kterém se používá plazma nebo jiný zdroj iontů pro ionizaci nanášených látek a na substrát se přikládá záporné předpětí, aby se usnadnilo vyloučení látek z plazmy. Zavádění reaktivních látek, odpařování tuhých látek v provozní komoře a použití monitorů pro provozní měření optických vlastností a tlouštěk povlaků jsou obvyklými modifikacemi tohoto procesu.

c. Cementace v prášku je proces vytvoření povlaku modifikací povrchu nebo tvorby krycího povlaku, při kterém je substrát ponořován do práškové směsi (obal) skládající se z těchto složek:

• 1. Kovových prášků, které se mají nanést (obvykle hliník, chrom, křemík nebo jejich kombinace);

• 1. Aktivátoru (obvykle halogenidová sůl); a

• 1. Inertního prášku, nejčastěji hliníku.

Substrát a prášková směs jsou uloženy v retortě, která je vyhřívána na teplotu 1030 K (757 °C) a 1375 K (1102 °C) po dobu postačující k nanesení povlaku.

d. Plazmové stříkání je proces přípravy krycího povlaku, v němž plazmový hořák (stříkací pistole), který tvoří a reguluje plazmu, přijímá povlakový materiál ve formě prášku nebo drátu, taví a vrhá ho na substrát, na kterém se pak vytváří celistvě spojený povlak. Plazmovým stříkáním se rozumí buď nízkotlaké plazmové stříkání nebo vysokorychlostní plazmové stříkání.

POZN. 1.: Nízkotlaký znamená tlak nižší než je okolní atmosférický tlak.

POZN. 2.: Vysokorychlostní se vztahuje na rychlost plynu na výstupu trysky, která je vyšší než 750 m/s při 293 K (20 °C) a 0,1 MPa.

e. Nanášením řídké kaše se rozumí vytvoření povlaku modifikací povrchu nebo tvorba krycího povlaku, při němž kovový nebo keramický prášek s organickým pojivem suspenduje v kapalině a nanese se na substrát buď stříkáním, ponořením nebo natíráním, pak se suší na vzduchu nebo v peci a tepelně zpracovává, aby byl získán žádaný povlak.

f. Naprašování je proces tvorby krycího povlaku založený na jevu přenosu pohybové energie, při němž se v elektrickém poli urychlují kladné ionty směrem k povrchu terče (povlakový materiál). Kinetická energie dopadajících iontů postačuje k tomu, že se z povrchu terče uvolňují atomy, které se ukládají na vhodně nastavený substrát.

POZN.1.: Tabulka se vztahuje pouze na proces triodového, magnetronového nebo reaktivního naprašování, které se používá pro zvýšení přilnavosti povlaku a rychlosti nanášení a na vysokofrekvenční (RF) naprašování používané za účelem odpařování nekovových povlakových materiálů.

POZN. 2.: Pro aktivaci nanášení lze používat iontové paprsky o nízké energii (pod 5 keV).

g. Iontová implantace je proces vytvoření povlaku modifikací povrchu, při němž se prvek, který se má legovat, ionizuje, urychluje gradientem napětí a implantuje se do povrchové vrstvy substrátu. Patří sem procesy, v nichž se iontová implantace provádí současně s naprašováním nebo fyzikálním nanášením v parní fázi pomocí elektronového paprsku.

KATEGORIE 3 – ELEKTRONIKA

3A Systémy, zařízení a součásti

Poznámka 1: Kontrolní režim zařízení a součástí popsaných ve 3A001 nebo 3A002, jiných než popsaných v 3A001.a.3. až 3A001.a.10. nebo 3A001.a.12., která jsou speciálně konstruovaná nebo které mají totožné funkční charakteristiky jako jiná zařízení, je určen kontrolním režimem těchto jiných zařízení.

Poznámka 2: Kontrolní režim integrovaných obvodů popsaných ve 3A001.a.3. až 3A001.a.9. nebo 3A001.a.12., které jsou pevně naprogramovány nebo vyvinuty pro specifickou funkci v jiných zařízeních, podléhají kontrolním režimům těchto jiných zařízení.

POZN.: Pokud výrobce nebo žadatel nemůže určit kontrolní režim jiného zařízení, řídí se kontrolní režim integrovaných obvodů podle 3A001.a.3. až 3A001.a.9. a 3A001.a.12.

Pokud integrovaný obvod na křemíkové podložce je „mikropočítačový mikroobvod“ nebo mikroregulátorový mikroobvod popsaný ve 3A001.a.3. a má délku slova operandů resp. dat 8 bitů nebo méně, je kontrolní režim integrovaného obvodu určen ve 3A001.a.3.

3A001 Elektronické součásti:

a. Integrované obvody pro všeobecné použití:

Poznámka 1: Kontrolní režim polovodičových destiček (dokončených nebo nedokončených) s určenou funkcí se řídí podle parametrů uvedených ve 3A001.a.

Poznámka 2: Do integrovaných obvodů patří tyto typy:

„Monolitické integrované obvody“;

„Hybridní integrované obvody“;

„Vícečipové integrované obvody“;

„Integrované obvody vrstvového typu“, včetně křemíkových obvodů na safírové podložce;

„Optické integrované obvody“.

• 1. Integrované obvody navržené nebo klasifikované jako radiačně odolné, které vydrží:

a. Celkovou radiační dávku 5x10^3 Gy (Si) nebo vyšší;

b. Rychlost dávky 5x10^6 Gy/s (Si) nebo vyšší; nebo

c. Kontinuální (integrovaný) tok neutronů (ekvivalent 1 MeV) 5x10^13 n/cm^2 nebo vyšší na křemíkové podložce nebo jeho ekvivalent pro jiné materiály.

Pozn.: 3A001.a.1.c. neplatí pro kov-izolant-polovodiče (MIS).

• 1. „Mikroprocesorové mikroobvody“, „mikropočítačové mikroobvody“, mikroregulátorové mikroobvody, paměťové integrované obvody vyrobené ze složených polovodičů, analogově číslicové a číslicově analogové převodníky, elektro-optické nebo „optické integrované obvody“ pro „zpracování signálů“, programovatelná logická pole, integrované obvody neuronových sítí, zákaznické integrované obvody, pro které buď není známa funkce nebo není znám kontrolní režim zařízení, ve kterém bude integrovaný obvod použit, procesory pro Fourierovu rychlou transformaci (FFT), elektricky vymazatelné programovatelné permanentní paměti (EEPROMs), vyrovnávací paměti flash nebo statické paměti s náhodným výběrem (SRAMs), které jsou:

a. Určeny k provozu při okolní teplotě nad 398 K (125 °C);

b. Určeny k provozu při okolní teplotě pod 218 K (-55 °C); nebo

c. Určeny k provozu v celém intervalu okolních teplot od 218 K (-55°C) do 398 K (125 °C);

Poznámka: 3A001.a.2. neplatí pro integrované obvody pro civilní automobily nebo použití v železničních vlacích.

• 1. „Mikroprocesorové mikroobvody“, „mikropočítačové mikroobvody“ a mikroregulátorové mikroobvody, které mají některou z dále uvedených charakteristik:

Poznámka: 3A001.a.3. zahrnuje číslicové signální procesory, číslicové maticové procesory a číslicové koprocesory.

a. Nevyužito;

b. Jsou vyrobeny ze složených polovodičů a pracují při hodinových frekvencích přesahujících 40 MHz; nebo

c. Více než jednu datovou nebo instrukční sběrnici nebo sériový komunikační vstupní kanál, který umožňuje přímé vnější propojení mezi paralelními „mikroprocesorovými mikroobvody“ s přenosovou rychlostí přesahující 150 Mbyte/s;

• 1. Paměťové integrované obvody vyrobené ze složených polovodičů;

• 1. Integrované obvody analogově číslicových a číslicově analogových převodníků:

a. Analogově číslicové převodníky, které mají některou z dále uvedených charakteristik:

Viz také 3A101

• 1. Rozlišení 8 bitů nebo větší, ale menší než 12 bitů, s 'celkovou dobou převodu' menší než 5 ns;

• 1. Rozlišení 12 bitů s 'celkovou dobou převodu' menší než 20 ns;

• 1. Rozlišení větší než 12 bitů, ale rovno nebo menší než 14 bitů s 'celkovou dobou převodu' menší než 200 ns; nebo

• 1. Rozlišení větší než 14 bitů s 'celkovou dobou převodu' menší než 1 μs.

b. Číslicově-analogové převodníky s rozlišením 12 bitů nebo větším a „dobou ustálení“ menší než 10 ns;

Technické poznámky:

• 1. Rozlišení n bitu odpovídá kvantizaci 2^n stavu.

• 1. 'Celková doba převodu' je obrácená hodnota rychlosti snímání (sample rate).

• 1. Elektro-optické a „optické integrované obvody“ pro „zpracování signálů“, které mají všechny dále uvedené charakteristiky:

a. Jednu nebo více vnitřních „laserových“ diod;

b. Jeden nebo více vnitřních prvků pro detekci světla; a

c. Optické vlnovody;

• 1. Uživatelem programovatelná logická zařízení, která mají některou z dále uvedených charakteristik:

a. Ekvivalentní počet využitelných hradel větší než 30000 (dvouvstupová hradla);

b. Typickou „dobu zpoždění základního hradla“ menší než 0,1 ns; nebo

c. Překlápěcí frekvenci (toggle frequency) přesahující 133 MHz;

Poznámka: 3A001.a.7. zahrnuje:

• Jednoduchá programovatelná logická zařízení (SPLDs)

• Složitá programovatelná logická zařízení (CPLDs)

• Programovatelná hradlová pole (FPGAs)

• Programovatelná logická pole (FPLAs)

• Programovatelné vnitřní spoje (FPICs)

POZN.: Uživatelem programovatelná logická zařízení (Field Programmable Logic Devices) jsou také známa jako uživatelem programovatelná hradla (Field programmable gates) nebo uživatelem programovatelná logická pole (Field programmable logic arrays).

• 1. Nevyužito;

• 1. Integrované obvody pro neuronové sítě;

• 1. Zákaznické integrované obvody jejichž funkce není známa nebo kontrolní režim zařízení, ve kterém budou integrované obvody použity není výrobci znám, a které mají některou z dále uvedených charakteristik:

a. Více než 1000 vývodů;

b. Typickou „dobu zpoždění základního hradla“ menší než 0,1 ns; nebo

c. Pracovní kmitočet větší než 3 GHz;

• 1. Číslicové integrované obvody jiné než popsané v 3A001.a.3. až 3A001.a.10. a 3A001.a.12., které jsou založeny na jakémkoli složeném polovodiči, a které mají některou z dále uvedených charakteristik:

a. Ekvivalentní počet hradel větší než 3000 (dvouvstupová hradla); nebo

b. Překlápěcí frekvenci překračující 1,2 GHz;

• 1. Procesory pro rychlou Fourierovu transformaci (FFT), které mají jmenovitou dobu provedení pro komplexní FFT s N body menší než (N log2 N)/20480 ms, kde N je počet bodů;

Technická poznámka:

Pokud se N rovná 1024 bodů, vzorec v 3A001.a.12. udává dobu provedení 500 µs.

b. Mikrovlnná zařízení nebo zařízení pracující s milimetrovými vlnami:

• 1. Vakuové elektronky a katody:

Poznámka 1: 3A001.b.1. nekontroluje elektronky konstruované nebo určené pro činnost v kterémkoliv frekvenčním pásmu se všemi následujícími charakteristikami:

a. Nepřesahují 31 GHz; a

b. Jsou „přiděleny podle ITU“ pro radiokomunikační služby, nikoliv však pro navigační rádiové služby.

Poznámka 2: 3A001.b.1. nekontroluje elektronky, které nejsou „vhodné pro kosmické aplikace“, které mají všechny následující charakteristiky:

a. Průměrný výstupní výkon 50 W nebo menší; a

b. Jsou konstruovány nebo určeny pro činnost v kterémkoliv frekvenčním pásmu se všemi následujícími charakteristikami:

• 1. Přesahují 31 GHz, ale nepřesahují 43,5 GHz; a

• 1. Jsou „přiděleny podle ITU“ pro radiokomunikační služby, nikoliv však pro navigační rádiové služby.

a. Elektronky s postupnou vlnou, impulsovou nebo trvalou vlnou:

• 1. Pracující při kmitočtech vyšších než 31 GHz;

• 1. Mající topný prvek katody s dobou náběhu na jmenovitý RF výkon menší než 3 s;

• 1. Elektronky s vázanou dutinou nebo jejich deriváty s „frakční šířkou pásma“ větší než 7 % nebo špičkovým výkonem převyšujícím 2,5 kW;

• 1. Elektronky s postupnou vlnou a elektrodou ve tvaru šroubovice nebo jejich deriváty, které mají některou z dále uvedených charakteristik:

a. „Okamžitou šířku pásma“ větší než 1 oktáva při součinu jmenovitého průměrného výkonu (v kW) a kmitočtu (v GHz) větším než 0,5;

b. „Okamžitou šířku pásma“ menší nebo rovnající se 1 oktávě při součinu jmenovitého průměrného výkonu (v kW) a kmitočtu (v GHz) větším než 1; nebo

c. Jsou „vhodné pro kosmické aplikace“;

b. Zesilovací elektronky se zkříženými poli o zisku větším než 17 dB;

c. Impregnované katody vyvinuté pro elektronky, k výrobě trvalé emisní proudové hustoty při jmenovitých pracovních podmínkách přesahujících 5 A/cm^2;

• 1. Mikrovlnné integrované obvody, které mají všechny následující charakteristiky:

a. Obsahují „monolitické integrované obvody“, které mají jeden nebo více aktivních prvků obvodu; a

b. Pracují při kmitočtech přesahujících 3 GHz;

Poznámka 1: 3A001.b.2. nekontroluje obvody nebo moduly pro zařízení konstruované nebo určené pro činnost v kterémkoliv frekvenčním pásmu se všemi následujícími charakteristikami:

a. Nepřesahují 31 GHz; a

b. Jsou „přiděleny podle ITU“ pro radiokomunikační služby, nikoliv však pro navigační rádiové služby.

Poznámka 2: 3A001.b.2. nekontroluje rozhlasové satelitní zařízení konstruované nebo určené pro činnost v kmitočtovém rozsahu od 40,5 GHz do 42,5 GHz.

• 1. Mikrovlnné tranzistory dimenzované pro provoz na kmitočtech přesahujících 31 GHz;

• 1. Mikrovlnné zesilovače v pevné fázi, které mají některou z dále uvedených charakteristik:

a. Pracovní kmitočty vyšší než 10,5 GHz a „okamžitou šířku pásma“ větší než je polovina oktávy; nebo

b. Pracovní kmitočty vyšší než 31 GHz;

• 1. Elektronicky nebo magneticky laditelné pásmové propustě nebo zdrže, které mají více než 5 laditelných resonátorů s možností ladění 1,5:1 přes kmitočtové pásmo (fmax/fmin) za méně než 10 μs a které mají jednu z dále uvedených vlastností:

a. Šířku pásma propustě více než 0,5 % středového kmitočtu; nebo

b. Šířku pásma zdrže méně než 0,5 % středového kmitočtu;

• 1. Mikrovlnné montážní celky schopné pracovat při kmitočtech větších než 31 GHz;

• 1. Směšovače a konvertory vyvinuté k rozšíření kmitočtového rozsahu zařízení popsaných ve 3A002.c., 3A002.e. nebo 3A002.f. nad tam uvedené mezní hodnoty;

• 1. Mikrovlnné zesilovače výkonu obsahující elektronky specifikované ve 3A001.b. a které mají všechny dále uvedené charakteristiky:

a. Pracovní kmitočet nad 3 GHz;

b. Průměrnou výstupní hustotu výkonu přesahující 80 W/kg; a

c. Objem menší než 400 cm^3;

Poznámka: 3A001.b.8. nekontroluje zařízení konstruované nebo určené pro činnost v kterémkoliv frekvenčním pásmu, které je „přiděleno podle ITU“ pro radiokomunikační služby, nikoliv však pro navigační rádiové služby.

c. Zařízení s akustickou vlnou a speciálně pro ně konstruované, dále uvedené, součásti:

• 1. Zařízení s povrchovou akustickou vlnou a s podpovrchovou akustickou vlnou (tj. zařízení na „zpracování signálů“ používající elastické vlny v materiálech), které mají některou z dále uvedených charakteristik:

a. Nosný kmitočet větší než 2,5 GHz;

b. Nosný kmitočet přesahující 1 GHz, ale nepřesahující 2,5 GHz s některou z dále uvedených charakteristik:

• 1. Potlačení postranních laloků kmitočtu větší než 55 dB;

• 1. Součin maximální doby zpoždění a šířky pásma (doba v μs a šířka pásma v MHz) větší než 100;

• 1. Šířka pásma větší než 250 MHz; nebo

• 1. Disperzní zpoždění větší než 10 μs; nebo

c. Nosný kmitočet 1 GHz nebo nižší s některou z dále uvedených charakteristik:

• 1. Součin maximální doby zpoždění a šířky pásma (doba v μs a šířka pásma v MHz) větší než 100;

• 1. Disperzní zpoždění větší než 10 μs; nebo

• 1. Potlačení postranních laloků kmitočtu větší než 55 dB a šířku pásma větší než 50 MHz;

• 1. Zařízení s prostorovou akustickou vlnou (tj. zařízení na „zpracování signálů“, která používají elastické vlny) jež dovolují přímé zpracování signálů při kmitočtech přesahujících 1 GHz;

• 1. Akusticko-optická zařízení na „zpracování signálů“, která používají interakci mezi akustickými vlnami (prostorovými nebo povrchovými) a světelnými vlnami, dovolující přímé zpracování signálů nebo obrazů, včetně spektrální analýzy, korelace nebo konvoluce;

d. Elektronická zařízení a obvody obsahující součástky vyrobené ze „supravodivých“ materiálů speciálně určených pro činnost při teplotách pod „kritickou teplotou“ alespoň jedné ze „supravodivých“ složek, které mají některou z dále uvedených charakteristik:

• 1. Spínání proudu pro číslicové obvody používající „supravodivá“ hradla se součinem doby zpoždění na jedno hradlo (v sekundách) a ztráty výkonu na jedno hradlo (ve wattech) menším než 10^-14 J; nebo

• 1. Frekvenční selekci při všech kmitočtech, kde jsou použity resonanční obvody s hodnotami jakosti Q přesahujícími 10000;

e. Vysokoenergetická zařízení:

• 1. Baterie a foto-voltaické generátory:

Poznámka: 3A001.e.1. nekontroluje baterie s objemy rovnajícími se nebo menšími než 27 cm^3 (např. standardní články nebo baterie R14).

a. Primární články a baterie, které mají 'hustotu energie' přesahující 480 Wh/kg a jsou dimenzované pro provoz v teplotním rozmezí od méně než 243 K (-30 °C) do více než 343 K (+70 °C);

b. Opakovatelně nabíjitelné články a baterie, které mají 'hustotu energie' přesahující 150 Wh/kg po 75 cyklech nabití/vybití při vybíjecím proudu C/5 hodin (kde C je jmenovitá kapacita v ampérhodinách), když pracují v teplotním rozmezí od méně než 253 K (-20 °C) do více než 333 K (60 °C);

Technická poznámka:

'Hustota energie' se získá násobením průměrného výkonu ve wattech (součin průměrného napětí ve voltech a průměrného proudu v ampérech) dobou vybíjení v hodinách na 75 % naprázdno a vydělením celkovou hmotností článku (nebo baterie) v kg.

c. „Vhodné pro kosmické aplikace“ a radiačně odolná pole fotočlánků s měrným výkonem přesahujícím 160 W/m^2 při pracovní teplotě 301 K (28 °C) při osvětlení wolframovou žárovkou o světelném toku 1 kW/m^2 a teplotě vlákna 2800 K (2527 °C);

• 1. Vysokoenergetické akumulační kondenzátory:

Viz také 3A201.a.

a. Kondenzátory s opakovacím kmitočtem méně než 10 Hz (jednorázové akumulační kondenzátory), které mají všechny dále uvedené charakteristiky:

• 1. Jmenovité napětí rovné nebo větší než 5 kV;

• 1. Hustotu energie rovnou nebo větší než 250 J/kg; a

• 1. Celkovou energii rovnou nebo větší než 25 kJ;

b. Kondenzátory s opakovacím kmitočtem 10 Hz nebo větším, které mají všechny dále uvedené charakteristiky:

• 1. Jmenovité napětí rovné nebo větší než 5 kV;

• 1. Hustotu energie rovnou nebo větší než 50 J/kg;

• 1. Celkovou energii rovnou nebo větší než 100 J; a

• 1. Životnost rovnou nebo větší než 10000 cyklů nabití/vybití;

• 1. „Supravodivé“ elektromagnety nebo solenoidy speciálně konstruované k plnému nabití nebo vybití za méně než jednu sekundu, které mají všechny dále uvedené charakteristiky:

Viz také 3A201.b.

Poznámka: 3A001.e.3. nekontroluje „supravodivé“ elektromagnety nebo solenoidy speciálně konstruované pro lékařské přístroje k zobrazování magnetické rezonance (MRI).

a. Energii dodanou během vybití překračující 10 kJ během první sekundy;

b. Vnitřní průměr vinutí vedoucích proud větší než 250 mm; a

c. Jsou dimenzovány pro magnetickou indukci větší než 8 T nebo „celkovou proudovou hustotu“ ve vinutí větší než 300 A/mm^2;

f. Snímače absolutní polohy se vstupem z otočného hřídele, které mají některou z dále uvedených charakteristik:

• 1. Rozlišení lepší než 1/265000 (rozlišení 18 bitů) z celého rozsahu stupnice; nebo

• 1. Přesnost lepší než ± 2,5 úhlové vteřiny.

3A002 Univerzální elektronická zařízení:

a. Záznamová zařízení a pro ně speciálně konstruované zkušební pásky:

• 1. Analogové přístrojové magnetopáskové záznamníky, včetně takových, které dovolují záznam číslicových signálů (např. používající modul s vysokou hustotou číslicového záznamu (HDDR)), které mají některou z dále uvedených charakteristik:

a. Šířku pásma překračující 4 MHz na jeden elektronický kanál nebo stopu;

b. Šířku pásma překračující 2 MHz na jeden elektronický kanál nebo stopu a které mají více než 42 stop; nebo

c. Chybu (základní) časového posunu vůči časovému základu, měřenou v souladu s příslušnými dokumenty IRIG (Inter Range Instrumentation Group) nebo EIA (Electronic Industries Association), menší než ± 0,1 μs;

Poznámka: Analogové magnetopáskové záznamníky speciálně konstruované pro civilní video záznamy nejsou považovány za přístrojové magnetopáskové záznamníky.

• 1. Číslicové videorekordéry s magnetickou páskou, které mají maximální přenosovou rychlost na číslicovém rozhraní překračující 360 Mbit/s;

Poznámka: 3A002.a.2. nekontroluje číslicové videorekordéry s magnetickou páskou speciálně konstruované pro televizní záznam používající formát signálu, který může zahrnovat stlačený formát signálu podle normy nebo doporučení ITU, IEC, SMPTE, EBU, ETSI nebo IEEE pro civilní televizní užití;

• 1. Číslicové přístrojové magnetopáskové přístroje, které používají techniku spirálového snímání nebo techniku pevných hlav a mají některou z dále uvedených charakteristik:

a. Přenosovou rychlost číslicového rozhraní přesahující 175 Mbit/s; nebo

b. Jsou „vhodné pro kosmické aplikace“;

Poznámka: 3A002.a.3. nekontroluje analogové magnetopáskové záznamníky vybavené převodní elektronikou typu HDDR v konfiguraci pro záznam pouze číslicových dat.

• 1. Zařízení s přenosovou rychlostí číslicového rozhraní překračující 175 Mbit/s, která jsou určena k tomu, aby umožnila použití číslicových videorekordérů s magnetickou páskou jako číslicových přístrojových záznamníků dat;

• 1. Digitizéry vlnových průběhů a záznamníky přechodových dějů, které mají obě dále uvedené charakteristiky:

a. Rychlost digitalizace rovnou nebo větší než 200 milionů vzorků za sekundu při rozlišení nejméně 10 bitů; a

b. Spojitý průběh dat 2 Gbit/s nebo více;

Technická poznámka:

Pro přístroje tohoto typu s architekturou paralelních sběrnic je rychlost spojitého přenosu definována jako součin nejvyšší rychlosti přenosu slov násobená počtem bitů ve slově.

Spojitý přenos je nejvyšší rychlost přenosu dat při níž je přístroj schopen dodávat data do velkokapacitní paměti bez ztráty jakékoli informace a při zachování vzorkovací rychlosti a analogově-číslicové převoditelnosti.

• 1. Zařízení pro nahrávání číslicových (digitálních) dat, která používají techniku magnetického disku a mají obě dále uvedené charakteristiky:

a. Rychlost digitalizace rovnou nebo větší než 100 milionů vzorků za sekundu při rozlišení 8 bitů nebo víc; a

b. Spojitý průběh dat 1 Gbit/s nebo více;

b. „Elektronické sestavy“ „kmitočtových syntetizátorů“, které mají „dobu přepínání kmitočtu“ z jednoho vybraného kmitočtu na druhý menší než 1 ms;

c. Radiokmitočtové „analyzátory signálu“:

• 1. „Analyzátory signálu“ schopné analyzovat kmitočty přesahující 31,8 GHz, a nepřesahující 37,5 GHz nebo kmitočty přesahující 43,5 GHz;

• 1. „Dynamické analyzátory signálu“, mající „šířku pásma v reálném čase“ přesahující 500 kHz;

Poznámka: 3A002.c.2. nekontroluje takové „dynamické analyzátory signálu'', které používají pouze pásmové filtry s konstantním procentem (známé také jako oktávové filtry nebo filtry se zlomky oktáv).

d. Generátory signálů na bázi syntetizátorů kmitočtu produkující výstupní kmitočty, jejichž přesnost a krátkodobá a dlouhodobá stabilita jsou řízeny vnitřním hlavním kmitočtem nebo jsou od něj odvozeny či upraveny, a které mají některou z dále uvedených charakteristik:

• 1. Maximální syntetizovaný kmitočet překračující 31,8 GHz;

• 1. „Dobu přepínání kmitočtu“ z jednoho vybraného kmitočtu na druhý menší než 1 ms; nebo

• 1. Fázový šum s jedním postranním pásmem (SSB) lepší než -(126 + 20 log10F – 20log10f) v dBc/Hz, kde F je posun od pracovního kmitočtu v Hz a f je pracovní kmitočet v MHz;

Poznámka: 3A002.d. nekontroluje zařízení, v němž je výstupní kmitočet buď produkován sečtením nebo odečtením dvou nebo více krystalem řízených kmitočtů nebo jejich sečtením či odečtením, po kterém se výsledek násobí.

e. Síťové analyzátory s maximálním pracovním kmitočtem překračujícím 43,5 GHz;

f. Mikrovlnné zkušební přijímače, které mají obě dále uvedené charakteristiky:

• 1. Maximální pracovní kmitočet větší než 43,5 GHz; a

• 1. Schopnost měřit současně amplitudu a fázi;

g. Atomové kmitočtové normály, které mají některou z dále uvedených charakteristik:

• 1. Dlouhodobou stabilitu (stárnutí) menší (lepší) než 1x10^-11/měsíc; nebo

• 1. Jsou „vhodná pro kosmické aplikace“.

Poznámka: 3A002.g.1. nekontroluje rubidiové normály, které nejsou „vhodné pro kosmické aplikace“.

3A101 Elektronická zařízení, přístroje a součásti, jiné než uvedené ve 3A001:

a. Analogově digitální převodníky, použitelné v „řízených střelách“ konstruované tak, aby splňovaly vojenské specifikace pro robustní zařízení;

b. Urychlovače schopné dodávat elektromagnetické záření produkované brzdným zářením z urychlených elektronů 2 MeV nebo větší a systémy obsahující tyto urychlovače.

Poznámka: 3A101.b. nespecifikuje zařízení speciálně konstruované pro lékařské účely.

3A201 Elektronické součásti, jiné než specifikované ve 3A001:

a. Kondenzátory, které mají jednu z dále uvedených kombinací charakteristik:

• 1. a. Pracovní napětí větší než 1,4 kV;

b. Uchovanou energii větší než 10 J;

c. Kapacitu větší než 0,5 μF; a

d. Sériovou induktanci menší než 50 nH; nebo

• 1. a. Pracovní napětí větší než 750 V;

b. Kapacitu větší než 0,25 μF; a

c. Sériovou induktanci menší než 10 nH;

b. Supravodivé solenoidní elektromagnety, které mají všechny dále uvedené charakteristiky:

• 1. Schopné vytvořit magnetické pole větší než 2 T;

• 1. Poměr délky k vnitřnímu průměru větší než 2;

• 1. Vnitřní průměr větší než 300 mm; a

• 1. Rovnoměrnost magnetického pole lepší než 1 % na středových 50 % vnitřního objemu;

Poznámka: 3A201.b. nekontroluje magnety speciálně konstruované a exportované 'jako součásti' lékařských snímkovacích systémů s nukleární magnetickou rezonancí (NMR). Výraz 'jako součásti' nemusí nezbytně znamenat fyzickou součást v rámci stejné dodávky; oddělené dodávky z různých zdrojů jsou povoleny za předpokladu, že příslušná vývozní dokumentace jasně vymezuje vztah těchto dodávek 'jako součástí' snímkovacího systému.

c. Zábleskové rentgenové generátory nebo pulsní elektronové urychlovače, které mají některou z dále uvedených kombinací charakteristik:

• 1. a. Urychlovače, které mají maximum energie elektronů 500 keV nebo větší, avšak menší než 25 MeV; a

b. 'Účinnost' (K) 0,25 nebo vyšší; nebo

• 1. a. Urychlovače, které mají maximum energie elektronů 25 MeV nebo větší; a

b. 'Špičkový výkon' větší než 50 MW.

Poznámka: 3A201.C. nekontroluje urychlovače, které jsou součástmi přístrojů, které byly vyvinuty pro jiné účely než je elektronové nebo rentgenové ozařování (např. elektronová mikroskopie) nebo přístrojů vyvinutých pro lékařské účely:

Technické poznámky:

• 1. 'Účinnost' K je definována jako:

K =1,7x10^3 V^2,65 Q

V je maximální energie elektronů v megaelektronvoltech.

Jestliže doba trvání pulsu paprsku urychlovače je menší nebo rovna 1 μs, pak Q je celkový urychlený náboj v coulombech. Pokud doba trvání pulsu paprsku urychlovače je větší než 1 μs, pak Q je maximální urychlený náboj v 1 μs.

Q je rovno integrálu i podle t pro dobu méně než 1 μs nebo dobu trvání pulsu (Q = ∫ idt), kde i je proud paprsku v ampérech a t je doba v sekundách.

• 1. 'Špičkový výkon' = (špičkové napětí ve voltech) x (špičkový proud paprsku v ampérech).

• 1. Ve strojích založených na mikrovlnných urychlovacích dutinách je doba trvání pulsu paprsku menší než 1 μs nebo doba trvání dávky svazku paprsků vyvolaných jedním pulsem mikrovlnného modulátoru.

• 1. Ve strojích založených na mikrovlnných urychlovacích dutinách je špičkový proud paprsku průměrný proud po dobu trvání dávky svazku paprsků.

3A225 Měniče kmitočtů nebo generátory, jiné než specifikované v 0B001.b.13., které mají všechny dále uvedené charakteristiky:

a. Vícefázový výstup s výkonem 40 W nebo větším;

b. Schopné provozu při frekvenčním rozsahu 600 Hz až 2000 Hz;

c. Celkové harmonické zkreslení lepší (menší) než 10 %; a

d. Řízení kmitočtu lepší než 0,1 %.

Technická poznámka:

Měniče kmitočtů ve 3A225 jsou také známy jako konvertory nebo invertory.

3A226 Zdroje stejnosměrného proudu o vysokém výkonu, jiné než specifikované v 0B001.j.6., které mají obě dále uvedené charakteristiky:

a. Schopné nepřetržitého provozu déle než 8 hodin při napětí 100 V nebo větším a výstupním proudu 500 A nebo větším; a

b. Stabilitu proudu nebo napětí lepší než 0,1 % po dobu 8 hodin.

3A227 Zdroje stejnosměrného proudu o vysokém napětí, jiné než specifikované ve 0B001.j.5., které mají obě z dále uvedených charakteristik:

a. Schopnost nepřetržitého provozu déle než 8 hodin, při napětí 20 kV nebo větším a výstupním proudu 1 A nebo větším; a

b. Stabilitu proudu nebo napětí lepší než 0,1 % po dobu 8 hodin.

3A228 Spínací zařízení:

a. Elektronky se studenou katodou, buď plněné nebo neplněné plynem pracující podobně jako jiskřiště, které mají všechny dále uvedené charakteristiky:

• 1. Obsahují tři nebo více elektrod;

• 1. Špičkové anodové napětí 2,5 kV nebo větší;

• 1. Špičkový anodový proud 100 A nebo větší; a

• 1. Anodové zpoždění 10 μs nebo méně;

Poznámka: 3A228 zahrnuje plynové krytronové elektronky a vakuové sprytronové elektronky.

b. Spouštěcí jiskřiště, které mají obě z dále uvedených charakteristik:

• 1. Anodové zpoždění 15 μs nebo menší; a

• 1. Špičkový proud 500 A nebo větší;

c. Moduly nebo montážní celky s rychlou spínací funkcí, které mají všechny dále uvedené charakteristiky:

• 1. Špičkové anodové napětí větší než 2 kV;

• 1. Špičkový anodový proud 500 A nebo větší; a

• 1. Spínací čas 1 μs nebo menší.

3A229 Odpalovací zařízení a ekvivalentní vysokoproudé pulsní generátory:

Viz také Seznam vojenského materiálu

a. Explosivní rozbuškové odpalovací systémy vyvinuté pro řízení vícenásobně řízených rozněcovačů specifikovaných v 3A232;

b. Modulární elektrické pulsní generátory (pulsovače), které mají všechny dále uvedené charakteristiky:

• 1. Konstruované pro přenosné a mobilní použití nebo použití ve ztížených podmínkách;

• 1. Uzavřené v prachotěsném obalu;

• 1. Schopnost předat svou energii v méně než 15 μs;

• 1. Výstup větší než 100 A;

• 1. 'Náběhový čas' menší než 10 μs při zatížení menším než 40 Ω;

• 1. Žádný rozměr nepřesahuje 254 mm;

• 1. Hmotnost menší než 25 kg; a

• 1. Určeny pro použití v rozšířeném teplotním rozmezí 223 K (-50 °C) až 373 K (100 °C) nebo určeny jako vhodné pro letecké a kosmické použití.

Poznámka: 3A229b. zahrnuje budiče pro xenonové výbojky.

Technická poznámka:

V 3A229.b.5. 'náběhový čas' je definován jako časový interval od 10 % do 90 % proudové amplitudy při odporovém zatížení.

3A230 Vysokorychlostní pulsní generátory, které mají obě z dále uvedených charakteristik:

a. Výstupní napětí větší než 6 V při odporovém zatížení menším než 55 Ω; a

b. 'Pulsní přechodový čas' menší než 500 ps.

Technická poznámka:

V 3A230 je 'pulsní přechodový čas' definován jako časový interval mezi 10 % a 90 % napěťové amplitudy.

3A231 Systémy generující neutrony včetně trubic, které mají obě z dále uvedených charakteristik:

a. Konstruované pro provoz bez vnějšího vakuového systému; a

b. Využívající elektrostatické zrychlení k vyvolání tritium-deuteriové jaderné reakce.

3A232 Rozněcovače a vícebodové rozbuškové systémy:

Viz také Seznam vojenského materiálu

a. Elektricky řízené rozněcovače:

• 1. Odpalovací můstek (EB);

• 1. Odpalovací můstkový odpor (EBW);

• 1. Nárazové rozbušky;

• 1. Odpalovací fóliové rozbušky (EFI);

b. Zařízení využívající jednoduché nebo násobné rozbušky, konstruované pro téměř současné odpálení výbušného povrchu více než 5000 mm^2 jedním signálem k odpálení s rozšířením přes celý povrch za méně než 2,5 μs.

Poznámka: 3A232 nekontroluje rozbušky používající pouze primární výbušniny jako je azid olovnatý.

Technická poznámka:

Rozbušky kontrolované 3A232 používají drobné elektrické vodiče (můstky, můstkové dráty nebo fólie), které se explozivně odpařují když jimi projde rychlý elektrický impuls o vysokém proudu. V nenárazových typech nastartuje výbušný vodič chemickou detonaci při dotyku s vysoce explozivní látkou jako je PETN (pentaerytritol-tetranitrát). V nárazových rozbuškách přirazí explozivní odpařování elektrického vodiče nárazník přes mezeru a dopad nárazu nastartuje chemickou detonaci. Nárazník je v některých typech spouštěn magnetickou silou. Výraz výbušná fólie může označovat jak odpalovací můstek (EB) tak i rozbušku nárazovou. Slovo iniciátor se někdy používá místo slova rozbuška.

3A233 Hmotnostní spektrometry, jiné než specifikované v 0B002.g., schopné měřit ionty atomové hmoty o 230 atomových hmotnostních jednotkách (amu) nebo větší s rozlišovací schopností lepší než 2 částice při 230, jak jsou dále uvedeny, a iontové zdroje k tomu účelu:

a. Plazmové hmotnostní spektrometry s induktivní vazbou (ICP/MS);

b. Hmotnostní spektrometry s doutnavým výbojem (GDMS);

c. Hmotnostní spektrometry s tepelnou ionizací (TIMS);

d. Hmotnostní spektrometry s elektronovým ostřelováním, které mají komoru zdroje zhotovenou z materiálu odolného proti působení UF6 nebo takovým materiálem pokrytou nebo vyloženou;

e. Hmotnostní spektrometry s molekulovým paprskem, které mají následující charakteristiky:

• 1. Komoru zdroje zhotovenou z nerezové oceli nebo molybdenu a mají vymrazovací kapsu schopnou chlazení na 193 K (-80 °C) nebo méně; nebo

• 1. Komoru zdroje zhotovenou z materiálu odolného proti působení UF6 nebo takovým materiálem pokrytou nebo vyloženou.

f. Hmotnostní spektrometry vybavené mikrofluorizačním iontovým zdrojem, konstruované pro aktinidy nebo fluoridy aktinidů.

3B Zkušební, kontrolní a výrobní zařízení

3B001 Zařízení pro výrobu polovodičových součástek nebo materiálů, jak jsou dále uvedeny a jejich speciálně konstruované součásti a příslušenství:

a. Zařízení pro epitaxiální růst krystalů „řízená uloženým programem“:

• 1. Schopná produkovat vrstvy s rovnoměrností tloušťky méně než ± 2,5 % v rozsahu vzdálenosti 75 mm nebo více;

• 1. Reaktory pro chemickou depozici par z organokovů (MOCVD) speciálně konstruované pro růst krystalů složených polovodičů chemickou reakcí mezi materiály specifikovanými v 3C003 nebo 3C004;

• 1. Zařízení pro epitaxiální růst s molekulárním svazkem při použití plynných nebo pevných zdrojů;

b. Zařízení „řízená uloženým programem“ konstruovaná pro iontovou implantaci, která mají některou z dále uvedených charakteristik:

• 1. Urychlují napětí větší než 1 MeV;

• 1. Jsou speciálně konstruovaná a optimalizovaná pro provoz při urychlujícím napětí menším než 2 keV;

• 1. Schopnost přímého zápisu; nebo

• 1. Schopná implantace kyslíku při vysokých energiích do zahřáté „podložky“ z polovodičového materiálu;

c. Plazmatická zařízení pro anizotropní leptání za sucha, „řízená uloženým programem“:

• 1. Zařízení s provozem kazeta-kazeta a uzávěry náplně (load-locks), která mají některou z dále uvedených charakteristik:

a. Navržena nebo optimalizována pro vytvoření kritických rozměrů 0,3 μm nebo menších s přesností ± 5 % 3 sigma; nebo

b. Navržena pro generování méně než 0,04 částic/cm^2 s měřitelným rozměrem částice větším než 0,1 μm v průměru;

• 1. Zařízení speciálně konstruovaná pro zařízení specifikovaná v 3B001.e., a která mají některou z dále uvedených charakteristik:

a. Navržena nebo optimalizována pro vytvoření kritických rozměrů 0,3 μm nebo menších s přesností ± 5 % 3 sigma; nebo

b. Navržena pro generování méně než 0,04 částic/cm^2 s měřitelným rozměrem částice větším než 0,1 μm v průměru;

d. Zařízení pro chemické nanášení v parní fázi (CVD) za podpory plazmatu „řízená uloženým programem“:

• 1. Zařízení s provozem kazeta-kazeta a uzávěry náplně (load-locks) a která mají některou z dále uvedených charakteristik:

a. Navržena podle specifikací výrobce nebo optimalizována pro vytvoření kritických rozměrů 0,3 μm nebo menších s přesností ± 5 % 3 sigma; nebo

b. Navržena pro generování méně než 0,04 částic/cm^2 s měřitelným rozměrem částice větším než 0,1 μm v průměru;

• 1. Zařízení speciálně konstruovaná pro zařízení specifikovaná v 3B001.e. a která mají některou z dále uvedených charakteristik:

a. Navržena podle specifikací výrobce nebo optimalizována pro vytvoření kritických rozměrů 0,3 μm nebo menších s přesností ± 5 % 3 sigma; nebo

b. Navržena pro generování méně než 0,04 částic/cm^2 s měřitelným rozměrem částice větším než 0,1 μm v průměru;

e. Vícekomorové centrální manipulační systémy pro destičky polovodičů s automatickým vkládáním „řízené uloženým programem“, které mají všechny dále uvedené charakteristiky:

• 1. Prostředky pro vstup a výstup destiček, k nimž lze připojit více než dvě zařízení na zpracování polovodičů; a

• 1. Jsou konstruovány jako integrovaný systém ve vakuovém prostředí pro sekvenční zpracování mnoha destiček;

Poznámka: 3B001.e. nekontroluje automatické robotizované manipulační systémy pro destičky polovodičů, které nejsou konstruovány pro provoz ve vakuovém prostředí.

f. Litografická zařízení „řízená uloženým programem“:

• 1. Nastavovací a krokovací nebo krokovací a snímací zařízení na zpracování destiček polovodičů za použití fotooptických nebo rentgenových metod, která mají některou z dále uvedených charakteristik:

a. Vlnovou délku světelného zdroje kratší než 350 nm; nebo

b. Schopnost exponovat obrazce s velikostí 'nejmenšího rozlišitelného prvku' 0,35 μm nebo menší;

Technická poznámka:

Velikost 'nejmenšího rozlišitelného prvku' se vypočítává podle následujícího vzorce:

MRF= vlnová délka světelného zdroje v mikrometrech ×Kčíselná apertura

kde K faktor = 0,7

MRF = velikost nejmenšího rozlišitelného prvku

• 1. Zařízení speciálně konstruovaná pro výrobu masek nebo zpracování polovodičových součástek za použití vychylovaného zaostřeného elektronového paprsku, iontového paprsku nebo „laserového“ paprsku, která mají některou z dále uvedených charakteristik:

a. Stopu paprsku menší než 0,2 μm;

b. Jsou schopna vytvořit obrazec o velikosti prvku menší než 1 μm; nebo

c. Mají přesnost překrytí lepší než ± 0,20 μm (3 σ);

g. Masky a optické mřížky konstruované pro integrované obvody specifikované ve 3A001;

h. Vícevrstvé masky s vrstvou fázového posunu.

3B002 Zkušební zařízení „řízená uloženým programem“, speciálně konstruovaná pro zkoušení zhotovených nebo rozpracovaných polovodičových součástek dále uvedených a speciálně konstruované součásti a příslušenství pro ně:

a. Pro zkoušení S-parametrů tranzistorových součástek při kmitočtech větších než 31 GHz;

b. Pro zkoušení integrovaných obvodů, která jsou schopna provádět funkční zkoušení podle pravdivostní tabulky při 'rychlosti testovacích vzorků' větší než 333 MHz;